News

GÖCH-Förderungspreis for Thomas Berger

Thomas Berger ist der diesjährige Preisträger des GÖCH-Förderungspreises für die beste Habilitationsarbeit des Jahres 2017. Die ausgezeichnete Arbeit mit dem Titel „Modification of Charge Trapping at Particle/Particle Interfaces by  Electrochemical Hydrogen Doping of Nanocrystalline TiO2“ wurde in der Fachzeitschrift Journal of the American Chemical Society veröffentlicht. Diese Publikation ist das Resultat der Zusammenarbeit zwischen Forschern der Universität Salzburg und der University of York in Großbritannien (Dr. Keith McKenna) und befasst sich mit elektrochemisch bedeutsamen Defekten bzw. Fehlstellen in porösen Titanoxid-Elektroden.
Defekte an Partikel/Partikel Grenzflächen können die technologischen Anwendungen dieser Materialien, wie z.B. der Wasserstofferzeugung durch Sonnenlicht oder der Umwandlung von Licht in elektrische Energie, stark beeinflussen und auch verbessern. Ein grundlegendes Verständnis von Eigenschaften und Wirkung dieser Defektzustände ist daher für eine Optimierung der Materialeigenschaften von großer Bedeutung.
„In unserer Arbeit konnten wir zeigen, dass Defekte an Grenzflächen und an Kontaktstellen zwischen Feststoffpartikeln elektrochemisch verändert werden können. Dies kann zu einer viel wirkungsvolleren Ausnützung von Licht-erzeugten Ladungsträgern beitragen“, so Thomas Berger. Mit Hilfe von quantenchemischen Rechnungen, die an der University of York durchgeführt wurden,  konnte dieser Effekt erstmals auf atomarer Ebene beschrieben werden. Es wird erwartet, dass die in der prämierten Arbeit erzielten Erkenntnisse auf eine Reihe weiterer Materialsysteme angewandt werden können, die in Nanoform für die Umwandlung von Licht in chemische oder elektrische Energie einsetzbar sind.

Thomas Berger

Univ. Prof. Dr. Oliver Diwald

Department of Chemistry and Physics of Materials

University of Salzburg

Jakob-Haringer-Strasse 2a

Tel: 0662-8044-6224